Intel, Samsung и Toshiba объединяют усилия с целью разработки технологий производства микросхем с нормами на уровне 10 нанометров.

Как сообщается, названные компании намерены сформировать консорциум, к которому в перспективе присоединятся ещё около десяти фирм и организаций, работающих в полупроводниковой и смежных отраслях. На начальном этапе в проект вложат 10 млрд иен (приблизительно $122 млн), из которых половину, предположительно, предоставит Министерство экономики, торговли и промышленности Японии (METI).

Производство микросхем по технологиям с нормами на уровне 10 нанометров планируется освоить в 2016 году. Toshiba и Samsung смогут использовать этот техпроцесс при изготовлении чипов флеш-памяти NAND, ну а Intel переведёт на него выпуск своих компьютерных решений.

Напомним, что сейчас самые современные процессоры «Интел» изготавливаются по 32-нанометровой технологии. В следующем году, как ожидается, корпорация начнёт выпускать 22-нанометровые изделия. Миниатюризация позволит реализовать в процессорах дополнительные функции и возможности, которые обеспечат не только увеличение времени автономной работы портативных устройств от аккумуляторной батареи, но и снижение стоимости конечных продуктов.